產品特色：
1.產品為酸性，可提供良好的刻蝕精細度。
2.對Au.Cu.Al.Cr.Ag及Ti等金屬不會產生腐蝕問題。
3.Etching Rate可利用溫度及時間進行調整。
4.在溫和條件下進行刻蝕時，可進行分析管理。
使用條件：
1.處理方法：Dipping or Rocking。浸漬處理或搖動。
2.使用溫度：45℃(35-55℃)。
3.處理時間：依鎳(Ni)層厚度進行調整。
Etching Rate：0.2µm/min(45℃)
酸性鎳刻蝕液 Nickel Selective Etchant-NC(日本產)
此產品針對基板薄膜上鎳(Ni)鍍層之刻蝕而開發之高性能酸性刻蝕液，可適用於矽晶體。
產品特色：
1.產品為酸性，可提供良好的刻蝕精細度。
2.對Au.Cu.Al.Cr.Ag及Ti等金屬不會產生腐蝕問題。
3.Etching Rate可利用溫度及時間進行調整。
4.在溫和條件下進行刻蝕時，可進行分析管理。
使用條件：
1.處理方法：Dipping or Rocking。浸漬處理或搖動。
2.使用溫度：45℃(35-55℃)。
3.處理時間：依鎳(Ni)層厚度進行調整。
Etching Rate：0.2µm/min(45℃)
產品特色：
1.產品為酸性，可提供良好的刻蝕精細度。
2.對Au.Cu.Al.Cr.Ag及Ti等金屬不會產生腐蝕問題。
3.Etching Rate可利用溫度及時間進行調整。
4.在溫和條件下進行刻蝕時，可進行分析管理。
使用條件：
1.處理方法：Dipping or Rocking。浸漬處理或搖動。
2.使用溫度：45℃(35-55℃)。
3.處理時間：依鎳(Ni)層厚度進行調整。
Etching Rate：0.2µm/min(45℃)
